Messtechnik in der Halbleiterindustrie
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Die Halbleiterindustrie zählt zu den präzisesten und komplexesten Produktionsumgebungen weltweit.
Jede einzelne Prozessstufe – von der Waferherstellung über Lithografie, Ätzverfahren und
Beschichtungsprozesse bis hin zu Test und Qualitätssicherung – erfordert exakt definierte und
jederzeit reproduzierbare Bedingungen. Bereits kleinste Abweichungen in Temperatur, Druck,
Durchfluss oder Medienreinheit können die Funktionsfähigkeit ganzer Bauelemente beeinträchtigen.
Aus diesem Grund besitzt Messtechnik eine zentrale Bedeutung für die gesamte Wertschöpfungskette
der Halbleiterproduktion. Sensoren, Messsysteme und Prüfverfahren ermöglichen die kontinuierliche
Kontrolle kritischer Parameter und stellen sicher, dass Fertigungsanlagen stabil, zuverlässig und
normgerecht arbeiten. Moderne Messtechnik trägt damit entscheidend zur Prozessqualität,
Ausbeute (Yield), Betriebssicherheit und wirtschaftlichen Effizienz in Reinräumen und
Produktionsanlagen bei.
Der folgende Überblick zeigt, welche Messgrößen in der Halbleiterfertigung besonders wichtig
sind, welche Herausforderungen bestehen und welche technischen Lösungen in verschiedenen
Prozessbereichen typischerweise zum Einsatz kommen. Ziel ist es, ein tiefes Verständnis dafür zu
vermitteln, welche Rolle präzise Mess- und Überwachungssysteme für stabile und hochwertige
Fertigungsergebnisse spielen.
Zentrale Messgrößen und Anforderungen in der Halbleiterfertigung
In der Halbleiterfertigung müssen zahlreiche physikalische, chemische und technische Größen
permanent überwacht und geregelt werden. Ziel ist eine hochstabile und reproduzierbare
Prozessumgebung, in der alle Abläufe innerhalb eng definierter Toleranzgrenzen stattfinden.
Messtechnik übernimmt dabei die Aufgabe, relevante Zustände in Echtzeit zu erfassen, Abweichungen
frühzeitig zu erkennen und eine gezielte Regelung zu ermöglichen.
Wichtige Messgrößen im Überblick
-
Druck: Überwachung von Prozessgasen, Vakuumstufen und Differenzdrücken
zwischen Reinraumzonen. -
Temperatur: Kontrolle thermischer Prozesse wie Diffusion, Oxidation,
Tempern sowie Stabilisierung von Medien und Anlagen. -
Durchfluss: Exakte Dosierung von Gasen, Chemikalien und Reinstwasser
in Prozess- und Versorgungssystemen. -
Füllstand: Überwachung von Chemikalien- und Vorratsbehältern für
eine sichere und unterbrechungsfreie Versorgung. -
Medienreinheit: Messung von Leitfähigkeit, TOC (Total Organic Carbon),
Partikelgehalt oder Metallionenanteilen in Reinstwasser und Chemikalien. -
Luft- und Reinraumparameter: Differenzdruck, Luftfeuchte, Temperatur
und Partikelkonzentration in Reinräumen und Schleusen. -
Elektrische Größen: Strom, Spannung, Widerstand, Kapazität oder
Leckströme bei Test, Charakterisierung und Qualitätssicherung von Bauelementen.
Anforderungen an Messtechnik in der Halbleiterindustrie
Messgeräte und Sensoren in der Halbleiterindustrie müssen besonderen Anforderungen gerecht
werden. Neben Genauigkeit und Stabilität spielen Aspekte wie Reinraumtauglichkeit, chemische
Beständigkeit, Langzeitdrift und die Möglichkeit zur rückführbaren Kalibrierung eine zentrale
Rolle.
- Hohe Messgenauigkeit und Auflösung bei sehr kleinen Toleranzbereichen
- Langzeitstabile Sensorik mit minimaler Drift
- Beständigkeit gegenüber aggressiven Chemikalien und hochreinen Medien
- Reinraumgeeignete Bauformen mit glatten, leicht zu reinigenden Oberflächen
- Möglichkeit zur regelmäßigen, rückführbaren Kalibrierung
- Integration in übergeordnete Leitsysteme und Feldbussysteme
- Hohe Signalqualität und Störfestigkeit in EMV-kritischen Umgebungen
Typische Messgrößen und Einsatzbereiche
| Messgröße | Typische Anforderungen | Beispiele für Einsatzbereiche |
|---|---|---|
| Druck |
Hohe Genauigkeit, schnelle Ansprechzeit, Messung von Vakuum bis Überdruck, geeignete Materialien für hochreine Gase. |
Vakuumkammern, Prozessgasleitungen, Differenzdrucküberwachung von Filtern und Reinraumzonen. |
| Temperatur |
Stabile Messung über weite Temperaturbereiche, geringe Wärmeableitung, reproduzierbare Messergebnisse. |
Diffusionsöfen, Oxidationsanlagen, Temperprozesse, Reaktoren, Medien- und Kühlkreisläufe. |
| Durchfluss |
Hohe Reproduzierbarkeit auch bei sehr kleinen Durchflüssen, geringe Toträume, chemisch beständige Werkstoffe. |
Prozessgasversorgung, Dosierung von Reinigungs- und Ätzchemikalien, Reinstwasser- Verteilung. |
| Füllstand |
Zuverlässige Erfassung bei aggressiven Medien, Schaum, Dämpfen oder engen Behältergeometrien. |
Chemikalientanks, Reinstwasserbehälter, Puffer- und Vorratsbehälter in Versorgungssystemen. |
| Medienreinheit |
Sehr niedrige Nachweisgrenzen, schnelle Reaktionszeiten, stabile und reproduzierbare Messmethoden. |
Qualitätsüberwachung von Reinstwasser, Prozesschemikalien und Spüllösungen. |
| Reinraumparameter |
Exakte Erfassung von Partikelzahl, Luftfeuchte und Differenzdruck, kontinuierliche Überwachung. |
Reinräume, Schleusenbereiche, Filterüberwachung, Monitoring von Klimaanlagen. |
| Elektrische Größen | Hohe Präzision, definierte Prüfabläufe, automatisierbare Mess- und Testsequenzen. | Wafer- und Bauteiltests, End-of-Line-Prüfstände, Zuverlässigkeits- und Burn-in-Tests. |
Die Vielfalt der Messgrößen verdeutlicht, dass Messtechnik in der Halbleiterindustrie nicht auf
einzelne Sensoren oder Prüfplätze beschränkt ist, sondern integraler Bestandteil nahezu aller
Prozess- und Versorgungssysteme. Eine durchdachte Auswahl und Kombination geeigneter
Messverfahren bildet die Grundlage für stabile Prozesse und eine konstant hohe Produktqualität.
Anwendungsbereiche der Messtechnik in der Halbleiterproduktion
Die Halbleiterfertigung umfasst zahlreiche hochspezialisierte Prozessschritte, die alle auf
präzise Mess- und Überwachungstechnik angewiesen sind. Die Anforderungen unterscheiden sich je
nach Einsatzgebiet, doch das Ziel bleibt stets gleich: stabile, reproduzierbare und
normgerechte Produktionsbedingungen zu gewährleisten.
1. Prozessgasversorgung
Prozessgase werden in nahezu allen Fertigungsschritten eingesetzt – darunter Lithografie,
Ätzprozesse, Dotierung und Beschichtungsverfahren wie CVD oder ALD. Gasqualität und
Prozessstabilität hängen unmittelbar von exakter Mess- und Regeltechnik ab.
- Überwachung von Druck und Differenzdruck in Gasleitungen
- Messung extrem kleiner Durchflussraten hochreiner Gase
- Leckagekontrolle und Dichtheitsüberprüfung
- Temperaturstabilisierung für konstante Gasdichte
2. Reinstwasser- und Chemikalienversorgung
Ultrareines Wasser (UPW) und hochreine Chemikalien sind essenziell, um Oberflächen von Wafern
und Bauelementen frei von Partikeln und Verunreinigungen zu halten. Messtechnik überwacht
Qualität, Reinheit und konstante Versorgung dieser Medien.
- Messung von Leitfähigkeit, TOC und Partikelbelastung
- Überwachung von Füllständen in Vorrats- und Prozessbehältern
- Regelung von Durchfluss und Temperatur in Versorgungssystemen
- Kontrolle chemischer Konzentrationen und Medienreinheit
3. Thermische Prozessführung
Viele Verfahrensschritte – etwa Oxidation, Diffusion oder Temperprozesse – sind stark
temperaturabhängig. Abweichungen im Temperaturprofil können strukturelle Fehler erzeugen oder
Materialeigenschaften verändern.
- Überwachung von Ofentemperaturen und Prozesskammern
- Präzise Temperaturmessung in schnellen thermischen Prozessen
- Temperaturstabilisierung von Chemikalien und Reinstwasser
4. Druck- und Vakuumtechnik
Druckverhältnisse spielen eine entscheidende Rolle bei Ätzprozessen, Abscheideverfahren und
Transferprozessen. Messtechnik dient hier sowohl der Prozessführung als auch der
Sicherheitstechnik.
- Vakuumüberwachung in Reaktoren und Beschichtungskammern
- Kontrolle von Druckgradienten zwischen Reinraumzonen
- Regelung von Gasdrücken in Plasma-, Ätz- und Beschichtungsprozessen
5. Reinraumüberwachung
Reinräume stellen eine der wichtigsten Umgebungsbedingungen der Halbleiterindustrie dar. Die
dort herrschenden Parameter müssen permanent erfasst werden, um Partikelkontamination und
Produktionsausfälle zu vermeiden.
- Messung von Partikelkonzentrationen und Partikelgrößen
- Überwachung von Luftfeuchte, Temperatur und Differenzdruck
- Dauerhaftes Monitoring gemäß internationalen Reinraumstandards
6. Elektrische Test- und Prüfverfahren
Die elektrische Charakterisierung bildet die abschließende Qualitätsstufe der
Halbleiterfertigung. Messtechnik unterstützt Testverfahren, die sicherstellen, dass
Bauelemente funktional, zuverlässig und normgerecht sind.
- Präzise Spannungs-, Strom- und Widerstandsmessungen
- End-of-Line-Tests und Burn-in-Überwachung
- Ermittlung von Kapazitäten, Leckströmen und anderen Funktionsparametern
Tabellarische Übersicht
| Bereich | Messaufgaben | Bedeutung für die Prozessqualität |
|---|---|---|
| Prozessgasversorgung | Druck, Durchfluss, Temperatur, Dichtheit | Konstante Gasreinheit und stabile Reaktionsbedingungen |
| Reinstwasser- und Chemikalienversorgung | Leitfähigkeit, TOC, Füllstand, Durchfluss | Vermeidung von Kontamination und Prozessstörungen |
| Thermische Prozesse | Temperaturprofile, Stabilität, Rampen | Exakte Reproduzierbarkeit materialabhängiger Schritte |
| Druck- und Vakuumtechnik | Druckniveau, Leckrate, Differenzdruck | Stabile Plasma- und Abscheidebedingungen |
| Reinraumüberwachung | Partikelzahl, Temperatur, Luftfeuchte, Differenzdruck | Vermeidung von Kontaminationsereignissen |
| Elektrische Tests | Strom, Spannung, Kapazität, Impedanz | Sicherstellung der Funktionalität und Zuverlässigkeit |
Die genannten Beispiele zeigen, dass Messtechnik im gesamten Produktionsablauf nicht nur
unterstützend wirkt, sondern eine grundlegende Voraussetzung für stabile und leistungsfähige
Fertigungsprozesse darstellt. Ohne präzise Messsysteme wäre die Herstellung moderner
Halbleiterbauelemente in ihrer heutigen Form nicht möglich.
Prozessstabilität und Qualitätssicherung durch Messtechnik
Eine der größten Herausforderungen der Halbleiterfertigung besteht darin,
Millionen hochkomplexer Strukturen auf engstem Raum mit konstant hoher Qualität
zu produzieren. Die Prozessstabilität hängt dabei unmittelbar von der Genauigkeit
und Zuverlässigkeit eingesetzter Mess- und Überwachungssysteme ab. Nur wenn alle
relevanten Parameter kontinuierlich erfasst und dokumentiert werden, lassen sich
Schwankungen minimieren und reproduzierbare Ergebnisse sicherstellen.
Bedeutung der Prozessstabilität
Durch präzise Messtechnik lassen sich Abweichungen frühzeitig erkennen, bevor
sie Auswirkungen auf den Fertigungserfolg haben. Dies ist entscheidend, da selbst
geringfügige Instabilitäten die elektrische Funktion eines Bauelements beeinträchtigen
oder den Yield deutlich senken können.
- Reduktion von Prozessschwankungen durch engmaschiges Monitoring
- Erhöhung der Reproduzierbarkeit über viele Fertigungsläufe hinweg
- Vermeidung von Ausschuss und Nacharbeitskosten
- Lückenlose Überwachung kritischer Prozessschritte
Rolle der Messtechnik in der Qualitätssicherung
Qualitätssicherung beginnt nicht erst beim Endtest, sondern begleitet den gesamten
Produktionsprozess. Moderne Messtechnik ermöglicht die Erfassung, Auswertung und
Dokumentation aller qualitätsrelevanten Parameter in Echtzeit. Dies schafft Transparenz
und bildet die Grundlage für eine kontinuierliche Optimierung der Prozesskette.
- Rückverfolgbare Dokumentation aller Mess- und Prozessdaten
- Überwachung definierter Prozessfenster zur Einhaltung internationaler Normen
- Vergleich und Analyse historischer Messreihen für Prozessoptimierungen
- Schnelle Fehlerdiagnose durch konsistente Datengrundlagen
Typische Messpunkte in der Qualitätssicherung
| Bereich | Messpunkte | Ziel der Überwachung |
|---|---|---|
| Reinraum | Partikelzahl, Differenzdruck, Temperatur, Luftfeuchte | Vermeidung von Kontaminationsereignissen |
| Prozessanlagen | Druck, Temperatur, Gasfluss, Vakuumlevel | Stabilisierung chemischer und physikalischer Prozesse |
| Chemikalien- und Reinstwasserqualität | Leitfähigkeit, TOC, Metallionengehalt | Sicherstellung definierter Medienreinheiten |
| Elektrische Tests | Spannung, Strom, Kapazität, Leckströme | Prüfung der Funktionalität fertiger Bauelemente |
| Versorgungssysteme | Füllstände, Druckniveaus, Durchflussmengen | Unterbrechungsfreie Versorgung sicherstellen |
Vorteile konsequenter Qualitätssicherung
Eine messtechnisch gestützte Qualitätsstrategie verbessert nicht nur die Fertigungsqualität,
sondern beeinflusst auch organisatorische und wirtschaftliche Faktoren positiv.
- Höhere Ausbeute durch stabile Prozessparameter
- Transparente und auditfähige Dokumentation
- Reduzierter Wartungs- und Materialaufwand
- Bessere Vorhersagbarkeit von Prozessverhalten
- Erfüllung internationaler Qualitätsstandards
Insgesamt trägt präzise Messtechnik entscheidend dazu bei, Prozesssicherheit und
Produktqualität in der Halbleiterproduktion langfristig zu gewährleisten. Sie bildet
die technische Basis für eine moderne, effiziente und stabil arbeitende Fertigungsumgebung.
Anforderungen an Messtechnik in der Halbleiterindustrie
Die besonderen Bedingungen der Halbleiterproduktion stellen hohe Anforderungen an Messgeräte,
Sensoren und Prüfverfahren. Viele Messstellen befinden sich in Reinräumen, aggressiven
Chemikalien, Vakuumbereichen oder komplexen Anlagenstrukturen. Gleichzeitig müssen Messwerte
jederzeit rückverfolgbar, stabil und hochpräzise sein. Die Messtechnik dient daher nicht nur der
Prozesskontrolle, sondern ist ein integraler Bestandteil der Fertigungsqualität.
Konstruktion und Materialien
Bauteile, die in der Halbleiterindustrie eingesetzt werden, müssen sowohl chemischen als auch
physikalischen Belastungen standhalten. Dies betrifft insbesondere Messgeräte, die mit hochreinen
Gasen, Reinstwasser oder aggressiven Chemikalien in Kontakt kommen.
- Chemisch beständige Werkstoffe wie Edelstahl, PFA, PTFE oder hochreine Metalle
- Glatte, leicht zu reinigende Oberflächen für den Reinraumeinsatz
- Minimierung von Toträumen zur Vermeidung von Rückständen
- Geeignete Dichtungen für medienkritische Anwendungen
Messgenauigkeit und Stabilität
Da viele Prozessschritte in engen Toleranzbereichen stattfinden, sind höchste Messgenauigkeit und
eine langfristige Stabilität der Sensoren notwendig. Auch geringe Driftwerte sind essenziell, um
reproduzierbare Prozessbedingungen sicherzustellen.
- Messgenauigkeiten im niedrigen Prozent- oder Promillebereich
- Hohe Auflösung für sehr kleine Prozessvariationen
- Geringe Drift über lange Einsatzzeiten
- Schnelle Ansprechzeiten für dynamische Prozesse
Reinraumtauglichkeit
Messgeräte müssen in Reinräumen so integriert werden, dass sie weder Partikel einbringen noch die
Luftströmungen negativ beeinflussen. Dies betrifft sowohl die Bauform als auch die Werkstoffe und
Montageverfahren.
- Partikelarme Konstruktion und Montage
- Geringe Emission von Ausgasungen oder flüchtigen Bestandteilen
- Kompatibilität mit Reinraumreinigung und Desinfektion
- Geräteausführung nach ISO-Reinraumklassen
Kalibrierbarkeit und Rückverfolgbarkeit
Um eine gleichbleibende Messqualität sicherzustellen, müssen Messgeräte regelmäßig kalibriert und
ihre Werte rückverfolgbar dokumentiert werden. Dies ist insbesondere bei Audits und internationalen
Normanforderungen relevant.
- Regelmäßige, rückführbare Kalibrierung aller Messpunkte
- Dokumentation nach internationalen Standards (z. B. ISO/IEC 17025)
- Unterstützung von Prüfprotokollen und digitalen Messdatenformaten
- Minimierung von Kalibrierintervallen durch stabile Messtechnik
Integration in Prozess- und Leittechnik
Moderne Fertigungsanlagen in der Halbleiterindustrie sind hochgradig automatisiert. Messgeräte
müssen sich daher nahtlos in bestehende Systeme integrieren lassen und eine schnelle sowie
störungsfreie Kommunikation gewährleisten.
- Unterstützung gängiger Schnittstellen und Feldbusprotokolle
- Hohe Signalqualität und EMV-Störfestigkeit
- Einfache Integration in Überwachungs- und Automatisierungssysteme
- Möglichkeit zur Vernetzung mehrerer Messstellen
Vergleich typischer Anforderungen
| Anforderung | Beschreibung | Relevante Einsatzbereiche |
|---|---|---|
| Chemische Beständigkeit | Materialien müssen aggressiven Medien und hoher Reinheit standhalten. | Chemikalienversorgung, Reinstwasser, Nassprozesse |
| Hohe Messgenauigkeit | Enge Toleranzen erfordern präzise Sensorik und geringe Messabweichungen. | Vakuumtechnik, Temperaturprozesse, Gasdurchfluss |
| Reinraumtauglichkeit | Bauteile dürfen keine Partikel emittieren oder Strömungen beeinflussen. | Reinräume, Schleusen, Messorte nahe der Waferbearbeitung |
| Dokumentation & Rückverfolgbarkeit | Messwerte müssen lückenlos gespeichert, ausgewertet und kalibriert werden. | Qualitätsmanagement, Auditprozesse, Endtests |
| Automatisierungsfähigkeit | Messstellen müssen in komplexe Systeme eingebunden werden können. | Fertigungsanlagen, Versorgungssysteme, Monitoring |
Zusammengefasst benötigt die Halbleiterindustrie Messtechnik, die sowohl den extremen
Reinheits- und Präzisionsanforderungen gerecht wird als auch langfristig stabil, auditfähig und
prozessintegrierbar ist. Nur so können moderne Fertigungsprozesse in der erforderlichen Qualität
und Geschwindigkeit betrieben werden.
Zukunftstrends und Weiterentwicklung der Messtechnik in der Halbleiterindustrie
Die Halbleiterindustrie entwickelt sich kontinuierlich weiter – mit immer kleineren
Strukturgrößen, komplexeren Materialien und höheren Anforderungen an Reinheit und
Prozesssicherheit. Parallel dazu steigt auch der Bedarf an modernen Messsystemen, die diesen
Entwicklungen gerecht werden. Die Messtechnik der Zukunft muss nicht nur präziser werden, sondern
auch intelligenter, schneller und stärker vernetzt.
1. Höhere Präzision und geringere Toleranzen
Mit dem Übergang zu Strukturgrößen im einstelligen Nanometerbereich verschiebt sich die Grenze
des technisch Messbaren. Messgeräte müssen extrem kleine Veränderungen erfassen können und dabei
langfristig stabil bleiben.
- Weiterentwicklung hochauflösender Sensoren
- Verringerung von Drift und Temperaturabhängigkeiten
- Verbesserte Kalibrierverfahren für nanometergenaue Messungen
2. Digitalisierung und vernetzte Messsysteme
Mit der zunehmenden Automatisierung moderner Fertigungsanlagen wächst die Bedeutung digitaler
Schnittstellen und intelligenter Sensortechnik. Messtechnik wird zunehmend Teil umfassender
Datenökosysteme.
- Einbindung von Sensoren in cloudbasierte Monitoring-Systeme
- Automatische Analyse großer Messdatensätze in Echtzeit
- Vernetzung verschiedener Messpunkte für vollständige Prozessabbildung
- Unterstützung moderner Kommunikationsprotokolle
3. Inline- und Echtzeitmessung
Während früher viele Prozessdaten zeitverzögert erfasst wurden, setzt die Branche zunehmend auf
Inline-Messtechnik direkt im Prozess. Dadurch lassen sich Fehler sofort erkennen und vermeiden.
- Kontinuierliche Überwachung ohne Produktionsunterbrechung
- Schnellere Reaktion auf Abweichungen
- Optimierung von Prozessfenstern durch Live-Daten
4. Fortschritte in Material- und Sensortechnologie
Neue Halbleitermaterialien wie Siliziumkarbid (SiC), Galliumnitrid (GaN) oder innovative
Packaging-Methoden stellen auch neue Anforderungen an die Messtechnik. Viele Prozesse benötigen
Sensoren, die unter extremen Bedingungen zuverlässig arbeiten.
- Chemisch resistentere Bauteile für hochreaktive Prozessmedien
- Höhere Temperaturbeständigkeit und geringere Drift
- Sensoren für enge Einbauräume und komplexe Anlagengeometrien
5. Predictive Maintenance durch Prozessdatenanalyse
Durch umfangreiche Datenerfassung und den Einsatz moderner Analyseverfahren lassen sich
Verschleiß, Drift oder Funktionsabweichungen frühzeitig erkennen. Dies reduziert Ausfälle und
verbessert die Prozesssicherheit.
- Analyse historischer Messdaten zur Mustererkennung
- Frühzeitige Identifikation instabiler Komponenten
- Optimierung von Wartungsintervallen auf Basis realer Messwerte
Tabellarische Übersicht zukünftiger Entwicklungen
| Trend | Technische Bedeutung | Auswirkungen auf die Fertigung |
|---|---|---|
| Höhere Messgenauigkeit | Verbesserte Sensorauflösung und geringere Drift | Exaktere Prozesskontrolle bei Nanostrukturen |
| Digitale Vernetzung | Schneller Datenaustausch und erweiterte Analysemöglichkeiten | Transparente Prozessüberwachung in Echtzeit |
| Inline-Messtechnik | Messung direkt im Prozess ohne Verzögerung | Reduzierte Ausschussraten und stabilere Prozesse |
| Neue Sensormaterialien | Höhere Beständigkeit und spezifischere Einsatzmöglichkeiten | Zuverlässige Messungen unter extremen Bedingungen |
| Predictive Maintenance | Datengetriebene Zustandsüberwachung von Anlagen | Weniger Stillstände und optimierte Wartungszyklen |
Die Weiterentwicklung der Messtechnik ist ein zentraler Faktor für den zukünftigen Erfolg der
Halbleiterindustrie. Fortschritte in Präzision, Digitalisierung und Sensortechnologie werden
zunehmend darüber entscheiden, wie stabil, effizient und leistungsfähig moderne
Fertigungsprozesse gestaltet werden können.
Fazit
Messtechnik spielt eine zentrale Rolle in der Halbleiterindustrie und bildet die Grundlage für
präzise, reproduzierbare und sichere Fertigungsprozesse. In keiner anderen Branche wirken sich
kleinste Abweichungen so unmittelbar auf Qualität, Ausbeute und Zuverlässigkeit aus wie bei der
Herstellung moderner Halbleiterbauelemente. Druck, Temperatur, Durchfluss, Medienreinheit und
Reinraumparameter müssen jederzeit exakt überwacht werden, um stabile Prozessbedingungen
sicherzustellen.
Die Anforderungen an Messsysteme sind entsprechend hoch: Neben höchster Genauigkeit und
Langzeitstabilität sind Reinraumtauglichkeit, chemische Beständigkeit und eine lückenlose
Rückverfolgbarkeit essenziell. Darüber hinaus müssen Messgeräte in komplexe Anlagenstrukturen und
digitale Prozessleitsysteme integriert werden können, um eine umfassende und kontinuierliche
Überwachung zu ermöglichen.
Mit dem Fortschritt hin zu kleineren Strukturgrößen, neuen Materialien und stärker vernetzten
Fertigungslinien gewinnt die Messtechnik weiter an Bedeutung. Echtzeitmessung, intelligente
Datenanalyse, automatisierte Kalibrierprozesse und vernetzte Sensorik werden zunehmend zu
entscheidenden Bausteinen der zukünftigen Halbleiterproduktion.
Insgesamt zeigt sich: Ohne präzise und zuverlässige Messtechnik wäre die moderne
Halbleiterfertigung in ihrer heutigen Form nicht möglich. Sie stellt sicher, dass komplexe
Produktionsprozesse stabil bleiben, hohe Qualitätsstandards eingehalten werden und die
technologischen Entwicklungen der Branche nachhaltig unterstützt werden.
WIKA WUC-10, WUC-15, WUC-16 Ultra high purity transducer Für explosionsgeschützte Bereiche, Ex nA ic
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Datenblatt |
Bedienungsanleitung |
- VCR® kompatible Druckanschlussgewinde
- Dichtheitsgeprüft mit Helium
- Gehäuse elektropoliert
- Oberflächenrauigkeit für Prozessanschluss Ra ≤ 0,25 μm
Datenblatt |
- Messen von Drücken mit hoher Genauigkeit 0,15 % RSS
- Hervorragende Langzeitstabilität
- Schirmung und Unterdrückung von Signalrauschen
- Vakuum-referenzierte Druckmessung
- Aktive Temperaturkompensation
Datenblatt |
Bedienungsanleitung |
- Hohe Überlastgrenze bis 400 %
- 0,1 % FS Genauigkeit
- Erfüllt höchste EMV-Anforderungen
- Messbereiche 0 ... 27,22 kg bis 0 ... 136,08 kg [0 ... 60 lbs bis 0 ... 300 lbs]
- Hohe Schutzart IP65 für Außennutzung und Prozesse mit starker Betauung

Datenblatt
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Bedienungsanleitung
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- Genauigkeit: 0,020 % FS
- Messbereich: 25 mbar ... 1.001 bar [10 inH2O ... 15.015 psi]
- Temperaturkompensation: 0 ... 50 °C [32 ... 122 °F]
- Kommunikation über RS-232 oder RS-485
- Stabile und kompakte Bauform
Datenblatt
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Bedienungsanleitung
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- Totraumfreier Messstoffraum
- Exzellentes Spülverhalten
- Dichtheitsgeprüft mit Helium, Leckrate ≤ 10 -9 mbar · l/s
- Gehäuse und Messstoffraum elektropoliert, Oberflächenrauigkeit Ra ≤ 0,25 µm
- Alle Reinstgasverschraubungen lieferbar
Datenblatt |
Bedienungsanleitung |
- Druckbereiche: 1 ... 1.000 mbar
- Genauigkeit: bis 0,1 % FS
- Integrierte, automatische Druckerzeugung
- Portabel, auch ohne Netzteil nutzbar durch Li-Ionen Akku
- Einfache Handhabung
Datenblatt
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Bedienungsanleitung
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- Dehnungen von 0 … 200 με bis max. 0 … 1.000 με
- Nachrüstbar, einfache Montage mit M6-Schrauben
- Gesamtfehler < 1 % Fnom
- Elektrischer Anschluss als Kabel, mit Stecker-Funkmodul, Display oder Anschlusskasten.
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- 2 fache mV/V-Anzeige
- 2x Digitaleingang und 4x Digitalausgang
- Integrierte Mehrfach-Signalausgänge verfügbar
- Serielle Schnittstelle, RS-232 oder RS-485
- Schutzart IP65
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